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2년 전 日에 급소 맞았던 삼성의 반격…"포토레지스트 개발"

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[머니투데이 김성은 기자]
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/사진=머니투데이DB

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2년 전 일본의 수출 규제 강화로 충격에 휩싸였던 삼성이 반도체 핵심 소재 독자 개발에 착수했다. 대일 의존도를 차츰 줄이고 소·부·장(소재·부품·장비) 자립도를 높여 나가려는 노력을 조용히 진행중인 것으로 풀이된다.

20일 삼성SDI는 반도체 제작 핵심 소재인 포토레지스트 개발에 착수했다고 밝혔다. 삼성SDI가 포토레지스트 개발을 공식화한건 이번이 처음이다.

포토레지스트는 빛에 노출됨으로써 약품에 대한 내성이 변화하는 고분자 재료다. 반도체 공정에서 웨이퍼에 코팅돼 감광제 역할을 하는, 반도체 노광공정에 없어서 안될 핵심 소재다.

일반 대중들에 생소한 포토레지스트가 큰 주목을 받았던 것은 2년 전 일본 정부가 한국에 대해 반도체, 디스플레이 제조공정에 쓰이는 핵심 재료들에 대한 수출 규제를 강화하면서다. 당시 일본 정부는 고순도 불화수소, 포토레지스트, 플루오린 폴리이미드 등 3종 소재에 대해 수출규제 강화조치를 단행했다.

포토레지스트 중에서도 당시 일본 정부는 EUV(극자외선)용 포토레지스트를 수출 규제 강화 품목에 넣었다. EUV는 기존 노광장비 대비 초미세 공정에 특화된 반도체 장비다. EUV용 노광공정에 쓰이는 포토레지스트를 만드는 업체는 국내에 없어 삼성전자 등은 일본 기업들에 전적으로 의존하다시피 해 왔다.

당시 플루오린 폴리이미드는 TV와 스마트폰 디스플레이 패널 핵심 재료, 고순도 불화수소도 반도체 공정에 핵심 재료인데다 일본 업체가 세계 시장의 70~90%를 점유하고 있어 대표 전자업체인 삼성전자를 비롯한 국내 기업들에 비상이 걸렸었다. '일본산이 아니면 안되는 소재'에 대해 잘 알았던 삼성전자 내부에서 특히 우려가 컸던 것으로 전해졌다.

반면 긍정적인 기대도 조심스레 나왔다. 일본 내부에서조차 '잠자던 아이를 깨웠다'는 표현이 나올 정도로 당시 산업계와 정부가 전자 공정상 반드시 필요한 소부장 국산화 노력에 본격적으로 나섰기 때문이다.

산업통상자원부는 올해 1월 '소부장 경쟁력 강화 대책 1년 반, 소부장 기업현장 보고서'를 발간하고 현재까지 업계가 이룬 노력과 성과들을 공표했다.

EUV용 포토레지스트는 유럽산 제품을 중심으로 수입 다변화에 나섰고 코오롱인더스트리가 불화폴리이미드 양산 설비를 구축했다. 국내 화학 소재 전문업체 솔브레인은 12N급 고순도 불산액을 생산할 수 있는 공장 규모를 2배 가량 확대했다.

당시 산업부는 "2019년 추경과 2020년 예산을 합쳐 약 2조원을 투입해 100대 품목에 대한 기술 개발을 추진했고 현재까지 85개 품목에 대한 기술 개발이 진행 중"이라고 밝혔다.

기업들 입장에서는 품질이 좋고 대체재가 없는 제품을 일부러 외면하기는 어렵다. 다만 한 기업 또는 한 국가에 대해 80~90%에 달하는 높은 의존도는 추후에도 또 다시 문제로 불거질 수 있다는 점을 인지했다는 점에서 일본 수출규제는 산업계 일대 전환점이 됐다.

삼성SDI는 이번 포토레지스트 개발을 전자재료사업부에서 담당한다. 다만 개발에 착수한 시점이나 배경, 개발 완료가 예상되는 시점에 대해서는 언급하지 않았다. 또 제품 개발이 완료될 경우 삼성전자 뿐만 아니라 여러 반도체 기업이나 그 외 포토레지스트 수요처를 염두에 두고 있다는 설명이다.

삼성SDI 관계자는 "EUV 포토레지스트 뿐 아니라 다양한 종류의 포토레지스트에 대해 가능성을 열어두고 개발을 진행 중"이라며 "구체적인 상용화 시점이나 개발 품목에 대해서는 아직 정해진 바 없다"고 말했다.

김성은 기자 gttsw@mt.co.kr

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