권용덕 그래핀랩 대표/사진제공=그래핀랩

"EUV(극자외선) 펠리클 기술 개발 성과를 바탕으로 반도체 소재 분야에서 입지를 넓히고 있습니다."

차세대 반도체 핵심 소재 개발 기업 그래핀랩의 권용덕 대표는 "수년간 끊임없는 연구와 노력으로 독보적 기술력을 확보했다"며 "반도체 소재 분야의 핵심 플레이어로 성장할 것"이라고 말했다.

그래핀랩은 그래핀 직성장 기술로 EUV 펠리클의 투과율을 90% 이상 달성한 업체다. 이에 대해 권 대표는 "반도체 미세 공정의 필수 핵심 부품인 EUV 노광 장비의 생산 효율성을 극대화하는 데 결정적 역할을 할 것으로 기대한다"면서 "관련 핵심 특허 출원도 준비하며 기술적 우위를 공고히 하고 있다"고 했다.

회사는 이 같은 기술력을 바탕으로 EUV 펠리클을 제조할 수 있는 신규 설비를 도입했다. 실제 반도체 양산 환경에 적용 가능한 수준의 검증 단계에 진입하면서 상용화에 대한 기대를 높이고 있다.

권 대표는 "EUV 펠리클 시장에서 확고한 입지를 다지고 있다"며 "최근에는 유수의 고객사와 공동 개발도 추진 중"이라고 했다. 이어 "당사의 그래핀 소재 기술과 고객사의 노하우가 결합되면 차세대 EUV 펠리클의 상용화가 가속화될 것으로 전망한다"고 덧붙였다.

회사는 해외 시장 진출에도 속도를 내고 있다. 최근 중국 장쑤성 치둥시(??市)와 MOU(양해각서)를 체결했다. 권 대표는 "치둥시의 적극적 지원을 바탕으로 중국 내 사무소를 설립할 계획"이라며 "이 사무소는 현지 시장 요구에 맞는 맞춤형 연구·개발을 수행하는 거점이자 중국 시장에 그래핀 기술을 효과적으로 알리는 전진 기지 역할을 할 것"이라고 말했다. 이번 MOU는 성장 잠재력이 큰 중국 반도체 시장을 공략하려는 전략적 움직임으로 풀이된다.

권 대표는 "그래핀 기반 EUV 펠리클 기술의 상용화를 앞당겨 반도체 공정 효율성과 성능 향상에 필수적인 솔루션을 제공하겠다"며 "이를 통해 글로벌 시장에서 경쟁 우위를 확보할 것"이라고 말했다.

박새롬 기자 tofha0814@mt.co.kr

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