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중국 통신장비업체 화웨이가 미 마이크로칩 제조사 CNEX와의 소송에서 패소했다. 미 법원이 화웨이의 기술 절취 혐의를 인정하면서, 안보를 이유로 화웨이를 제재하는 미국 정부의 주장이 더욱 탄력을 받게 될 전망이다.
26일(현지시간) 월스트리트저널(WSJ) 등에 따르면 이날 텍사스 주 연방법원 배심은 화웨이의 반도체 자회사 하이실리콘이 CNEX의 저장장치(SSD) 관련 기업비밀을 유출했다고 평결을 내렸다. 연방법원 배심은 다만 CNEX의 손해배상 청구는 기각했다.
CNEX 측은 성명을 통해 이번 평결이 "법치의 승리"라고 평가했다. 반면 화웨이 측은 평결 결과에 대해 실망했다면서 항소를 고려하겠다고 밝혔다.
양사 간 법적분쟁은 2017년 12월 시작됐다. 당시 화웨이는 CNEX의 공동설립자이자 화웨이 직원 출신인 이렌 로니 황이 화웨이의 지적재산권을 훔쳤다고 소송을 제기했다.
그러자 CNEX는 지난해 10월 도리어 화웨이가 자사의 반도체 핵심기술을 절취했다며 소송을 제기했다. 화웨이가 자사 직원을 CNEX의 잠정 고객인 것처럼 위장시킨 뒤 CNEX의 기밀을 빼갔으며, 이후 해당 직원에게 관련 보고서를 작성하도록 지시했다는 것이다.
그러나 화웨이는 CNEX가 해당 직원을 '오픈소스 기술'(무상으로 공개되는 기술)을 논의하자면서 초청했기 때문에 기밀을 절취하지 않았다는 입장이다.
이번 판결은 미 상무부가 화웨이를 수출 규제 명단에 올리고, 동맹국에 화웨이 제재 동참을 요구하는 가운데 나왔다. 미국은 그동안 화웨이가 중국 정부의 사주를 받아 첩보 활동에 자사 장비를 활용할 수 있다고 주장해왔다.
정한결 기자 hanj@mt.co.kr
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