14일 업계에 따르면 동진쎄미켐은 최근 ArF 포토레지스트를 개발에 박차를 가하기 위해 ASML의 ArF 이머전(액침) 노광 장비를 회사에 들일 준비를 하고 있다. 이 노광기는 동진쎄미켐의 국내 최대 고객사가 사용하던 중고 장비다.
동진쎄미켐은 지난해 천안 발안공장에 ArF 이머전 노광 장비 한 대를 들인 바 있다. 그러나 작년 말 일본 수출 규제 이후 '포토레지스트 국산화'가 화두로 떠오르면서 장비 추가 구매를 추진한 것으로 파악된다. ASML의 장비 재정비 작업을 거친 후 조만간 회사에 입고할 예정이다.
업계에 정통한 한 관계자는 “동진쎄미켐이 소재·부품·장비 정부 예산으로 확보하게 된 연구개발(R&D) 비용으로 장비 투자에 나선 것으로 보인다”며 “이부섭 동진쎄미켐 회장 등 회사 초고위층 관계자가 장비 구매를 위해 움직였을 가능성이 높다”고 전했다.
ArF 포토레지스트는 반도체 공정 중 특정 광원으로 회로 모양을 반복적으로 찍어내기 위한 '노광 공정' 전 웨이퍼 위에 반드시 발라야 하는 소재다. ArF 포토레지스트는 현재 반도체 제조사가 주력 칩을 대량으로 생산할 때 활용한다.
ArF 포토레지스트는 두 갈래로 나뉜다. △웨이퍼에 도달하는 빛의 굴절을 위해 공기를 사용하는 드라이 장비 △빛 굴절률이 높은 액체를 사용하는 이머전 장비용 포토레지스트다.
현재 업계에서 사용하는 주력 노광 장비는 ArF 이머전 장비다. 이 장비에 쓰이는 포토레지스트는 JSR코퍼레이션, 신에쓰화학, 도쿄오카공업(TOK) 등 일본 기업이 독점하다시피 한다. 해당 기업이 국내 칩 제조사로 수출하면서 적지 않은 매출을 만들어내고 있다.
동진쎄미켐은 ArF 드라이 및 이머전 장비용 포토레지스트를 일부 생산한다. 그러나 시장 점유율은 낮은 것으로 전해진다.
업계는 올해 동진쎄미켐이 ArF 이머전 장비를 연이어 구매하면서 주력 시장 진입에 더욱 박차를 가할 것이라고 분석했다. 국내에서 이 시장에 진입할 수 있는 소재 기업은 사실상 동진쎄미켐이 유일하다는 평가다.
아울러 차세대 노광 공법인 EUV 공정용 포토레지스트 연구에도 일부 활용할 수 있을 것이라는 추측도 있다. 이 제품 역시 일본 기업이 강세로, 일본 정부가 지난해 수출 규제 품목으로 지정해 한국 정부를 압박했다.
한 업계 관계자는 “최근 동진쎄미켐이 구매한 장비들로 완전한 EUV 포토레지스트 개발은 할 수는 없지만, 아주 기초적인 성능 평가 정도는 진행할 수 있다”고 전했다.
동진쎄미켐 관계자는 “회사에 ArF 이머전 장비가 2대로 늘어날 것이라는 계획은 있지만 향후 어떻게 될지 모르는 부분”이라며 “장비 구매 관련 구체적인 사항은 확인해줄 수 없다”고 전했다.
동진쎄미켐 로고. |
강해령기자 kang@etnews.com
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