머크 관계자는 "한국은 머크에게 중요한 혁신·생산 허브"라며 "기술센터 완공·확장을 위해 350억원 이상을 투자했다"고 말했다.
기술센터는 고도화된 CMP 슬러리(반도체 웨이퍼 표면을 연마하는 물질) 및 포스트-CMP 클리닝에 대한 연구개발을 가속화한다. 5층, 3240m²의 면적으로 이뤄져 있으며, 고객 평가를 위한 샘플링 랩, 리서치 랩, 검사 장비 등 설비가 갖춰진 클린룸으로 구성된다.
글렌 영 한국머크 대표는 "머크는 전자산업의 기술 발전을 위한 기초연구 육성에 관심을 갖고 있다"고 말했다.
설성인 기자(seol@chosunbiz.com)
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