국가연구인프라(3N) 2단계 지정(안) (과학기술정보통신부 제공) 2020.07.02 / 뉴스1

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(서울=뉴스1) 김승준 기자 = 과학기술정보통신부는 2일 제5회 소재·부품·장비 기술특별위원회에서 '국가 연구인프라(3N) 2단계 지정(안)'을 의결했다고 밝혔다.

국가 연구인프라(3N) 2단계 지정(안)은 2019년 8월 과기정통부가 마련한 '소재·부품·장비(소부장) 연구개발 투자전략 및 혁신대책의 후속 조치로 13개 국가 연구실(N-LAB), 5개 국가 연구시설(N-Facility) 및 15개 국가 연구협의체(N-TEAM)를 지정하는 내용을 담고 있다.

지난해 1단계 지정 때는 12개 국가 연구실 및 6개 국가 연구시설이 지정됐다. 1단계에서는 국가 연구실은 정부출연 연구기관(출연연)이 선정됐고, 연구시설은 반도체·나노분야에 한정됐다. 이번 2단계 지정에서는 연구실은 출연연과 대학으로, 연구 시설은 소부장 핵심품목 관련 기술 분야로 범위가 확대됐다.

이번에 처음 지정된 연구 협의체는 산업체 지원역량이 우수한 협의체를 중심으로 구성해, 산업현장의 기술적 난제 및 애로사항 해결 등을 지원해 나간다.

김상식 민간위원장은 이번 2단계 지정과 관련해 "이번 지정으로 소재·부품·장비 분야의 연구 역량을 결집할 수 있는 기반이 마련됐다"며 " 앞으로 산업현장과 잘 연계해 자립역량 강화에 기여할 수 있는 인프라로 자리 잡기를 바란다"고 기대했다.

김성수 과학기술혁신본부장은 "광범위한 글로벌 공급망(GVC) 충격이 예상되는 가운데, 소부장 자립을 위한 지속적인 정책 추진을 위해서는 현장과의 소통이 매우 중요하다"며 "국가 연구인프라 2단계 지정을 통해 소재·부품·장비 분야 연구인프라가 성공적으로 조성되어 효과적인 산업 현장 지원이 가능할 것으로 기대한다"고 말했다.

이날 소부장 기술특위는 비메모리 반도체, 디스플레이 소재 기업에서 진행됐으며, 회의 개최에 앞서 특위 위원들은 약 한시간 가량 생산시설을 참관하고 기업의 애로사항 등 현장의견을 청취하는 시간을 가졌다.

국가연구인프라(3N) 2단계 지정(안) (과학기술정보통신부 제공) 2020.07.02 / 뉴스1

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seungjun241@news1.kr

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