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(서울=뉴스1) 서한샘 기자 = SK하이닉스의 D램 반도체 핵심 기술을 중국 경쟁 업체에 유출한 장비업체 관계자들이 2심에서도 유죄를 선고받았다. 새롭게 유죄로 인정된 혐의가 추가되고 1심 양형이 지나치게 가볍다는 판단이 나오면서 일부 피고인은 형이 가중됐다.

서울고법 형사7부(부장판사 이재권 송미경 김슬기)는 18일 산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반(영업비밀 누설 등) 혐의로 기소된 장비업체 A 사 부사장 B 씨에게 징역 1년 6개월을 선고했다. 1심 형량이었던 징역 1년보다 가중됐다.

함께 기소된 A 사 법인에게는 1심에서 선고된 벌금(4억 원)보다 높은 벌금 10억 원이 선고됐다.

같은 혐의로 재판에 넘겨진 나머지 임직원 8명 중 일부도 형이 가중됐다. 3명은 징역 1년~1년 6개월의 실형을, 2명은 징역 6~8개월에 집행유예 2년을 선고받았다.

A 사와 임직원들은 SK하이닉스와 협력 관계 과정에서 파악한 'HKMG'(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술과 세정 레시피 등 국가 핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년 8월~2020년 6월까지 중국 반도체 업체로 유출한 혐의로 기소됐다. 'HKMG'는 D램 반도체 성능 향상을 위해 전도율 높은 신소재를 사용한 제조공정 기술이다.

이들은 삼성전자의 반도체 장비업체 세메스의 기술을 경쟁업체 전직 직원 등을 통해 몰래 취득한 후 중국 수출용 장비 개발에 기술을 사용하게 한 혐의도 받는다.

재판부는 1심에서 무죄로 판단한 세정 장비 사양 정보 유출 혐의에 대해 일부 유죄로 판단했다. 재판부는 "이는 SK하이닉스의 영업 비밀에 해당하는 동시에 A 사가 제삼자에게 은밀하게 유출할 수 없는 비밀 유지 대상인 산업기술"이라며 "이를 유출한 것은 범죄가 모두 성립한다"고 판단했다.

또 일부 임직원에 대한 1심 양형이 너무 가볍다고 봤다. 재판부는 "SK하이닉스의 중요 산업기술, 영업 비밀을 임의로 경쟁업체에 유출하거나 세메스(삼성전자 자회사)의 정보를 부정 취득한 범행은 여러 면에서 심각한 위해를 초래할 수 있는 중대 범죄"라며 "피해자인 세메스는 엄벌을 탄원하고 있다"고 지적했다.

이어 "이런 피해는 세메스뿐 아니라 우리나라 산업 전반에도 큰 영향을 미치는 행위"라며 "범행으로 부정 취득한 정보는 세메스가 최초 개발한 최첨단 고부가 가치사업과 영업비밀로서 피해 규모나 위험성이 상당하다"고 꼬집었다.

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