- 재료硏, 내플라즈마성 고엔트로피 세라믹 세계 최초 개발
투명한 내플라즈마성 고엔트로피 세라믹을 개발한 재료연 연구팀. 신유빈(왼쪽부터) 석사과정 학생연구원, 마호진 박사.[한국재료연구원 제공] |
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[헤럴드경제=구본혁 기자] 한국재료연구원(KIMS) 나노재료연구본부 마호진 박사 연구팀이 부산대학교 이정우 교수 연구팀과 공동연구를 통해 반도체 제조 공정 중 식각장비 내부 부품의 수명을 늘리고 오염 입자를 줄이는 투명한 내플라즈마성 고엔트로피 세라믹 신(新)조성과 공정 기술을 세계 최초로 개발했다.
세라믹은 반도체 식각장비 내부 소재에서 90% 이상을 차지한다. 그 이유 중 하나는 다른 소재보다 플라즈마 저항성(플라즈마를 견디는 힘)이 높기 때문이다. 배가 바닷물과 부딪혀 녹슬 듯 식각공정 과정에서 사용되는 플라즈마가 장비 내부 부품과 지속적으로 반응해 부식과 오염을 발생시킨다. 따라서 이와 같은 문제를 줄이는 소재로 세라믹이 사용된다. 하지만 반도체의 고집적화로 인해 점점 가혹한 환경에서 식각 공정이 진행됨에 따라 일반적으로 활용되는 세라믹 부품 교체 빈도가 잦아지고 반도체 생산성이 저해되고 있다.
연구팀은 기존에 주로 활용되는 세라믹 소재인 이트리아, 알루미나, 야그 조성의 한계에서 벗어나 새로운 고엔트로피 세라믹 조성을 설계하고, 무기공 치밀체(밀도가 높은 고체 상태의 재료) 소결 공정 기술을 통해 99.9% 밀도의 투명한 세라믹을 개발했다. 이와 같은 치밀체는 플라즈마 내성을 요구하는 식각 공정 장비에 활용된다. 또한, 연구팀은 고엔트로피 세라믹을 구성하는 원소의 결정구조 변화를 확인하고 기공을 제어하는 기술로 가시광선과 적외선을 투과할 수 있는 투명 세라믹을 개발했다.
제작된 투명 내플라즈마성 고엔트로피 세라믹 사진과 결정 구조 모델.[한국재료연구원 제공] |
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반도체 공정에서 식각율이 낮은 소재는 오염 입자가 적고 내구성이 높다는 것을 의미한다. 연구팀이 개발한 고엔트로피 투명 세라믹은 사파이어와 비교했을 때 1.13% 수준으로 낮은 식각율을 나타냈다. 또한, 플라즈마 저항성이 우수하다고 알려진 이트리아에 비교했을 때는 8.25% 수준에 불과할 정도로 식각율이 낮아 뛰어난 내구성을 입증했다.
이번 연구결과는 국제학술지 ‘저널 오브 어드밴스드 세라믹스’에 1월 13일 온라인 게재됐다.
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