박만호 연구소장, 이제민·이승환 연구원.

반도체 장비업체 아스플로가 개발한 '반도체 공정 장비용 고청정 금속필터'가 2019년 50주 차 IR52 장영실상을 수상했다. 반도체 소자를 생산하는 장비 내부로 이물질이 유입되는 것을 방지하는 여과 필터 역할을 하는 부품으로 직경 2㎚(나노미터·1㎚는 10억분의 1m)에 불과한 초미세입자까지 99.99999% 걸러준다. 고도의 정밀도가 요구되는 반도체 생산 공정은 그 특성상 2~3㎚ 크기의 작은 이물질이라도 생산 장비에 유입되면 불량이 발생하기 때문에 여과 장치는 필수적이다.

아스플로가 고청정 금속필터를 개발하기 전까지는 국내에 이 같은 고청정 금속필터가 없었다. 박만호 아스플로 기술연구소장은 "100% 수입에 의존하다 보니 부품 수급이 용이하지 않은 문제가 반복됐다"며 "이를 해결하기 위해 국산화 연구에 뛰어들게 됐다"고 말했다. 아스플로 연구진은 5년간 연구개발(R&D)한 끝에 2017년 해외 제품과 동일한 수준의 성능을 갖춘 반도체 공정 장비용 고청정 금속필터를 개발하는 데 성공했다. 아스플로 고청정 금속필터는 스테인리스스틸과 하스텔로이(니켈합금의 일종) 등 부식에 강한 소재로 만들어 내구성이 우수하다. 이들 금속 분말로 필터 형상을 만든 뒤 도자기를 굽듯 섭씨 1000도 이상의 고온과 고진공 환경에서 제작했다. 고운 입자가 굳는 과정에서 복잡한 기공 구조를 형성해 수 ㎚의 초미세입자를 여과하는 데 탁월한 능력을 발휘할 수 있다는 설명이다. 아스플로는 "초미세입자 여과에 있어 해외 제품보다 성능이 뛰어나고 가격은 훨씬 저렴하다"고 설명했다.

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[송경은 기자]

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