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삼성전자는 지난해 시설투자가 38조5000억원 수준이었다고 28일 밝혔다. 사업별로는 반도체 부문이 32조9000억원, 디스플레이 부문이 3조9000억원 수준이다.
메모리반도체 부문에서는 향후 수요 증가 대응을 위한 첨단공정 전환과 증설로 투자가 늘었다. 파운드리(반도체 위탁생산) 부문에서도 EUV(극자외선) 5나노 공정 등 증설로 투자 규모가 전년보다 크게 증가했다.
디스플레이 부문에서는 QD(퀀텀닷) 디스플레이 생산능력 확대와 중소형 신기술 공정 중심으로 투자가 증가했다.
심재현 기자 urme@mt.co.kr
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