[서울=뉴스핌] 김양섭 기자 = 극자외선(EUV) 노광 공정용 린스에 대한 글로벌 반도체 기업의 양산 라인 평가를 받고 있는 와이씨켐이 반도체 웨이퍼 특수 세정장비 개발을 진행중인 것으로 23일 확인됐다.

장비개발 신사업팀을 구성한 와이씨켐은 반도체 소재 개발 노하우를 바탕으로 반도체 웨이퍼 특수 세정장비 개발을 추진해왔다. 웨이퍼 특수 세정은 표면 오염 방지와 불순물 제거를 통해 후속 공정을 용이하게 만들고 반도체 소자의 전기적, 물리적 특성을 높여 수율을 향상시키기 위한것이다.

웨이퍼 세정은 배치(batch) 타입과 싱글 워터 타입 두가지 방법이 쓰인다. 배치 타입은 여러 장의 웨이퍼를 화학용액이 채워진 세정 조(Bath)에 넣어 한번에 여러 장의 웨이퍼를 처리하는 것이며 싱글타입은 웨이퍼를 낱장 단위로 세정하는 방식이다.

와이씨켐은 두가지 방식 모두 가능한 세정장비를 개발, 내달 국내 반도체 관련 기업에 공급할 계획에 있다. 회사측은 반도체 세정장비는 매출 포트폴리오 다변화를 위한 신사업으로 수주 규모를 확대해 간다는 방침이다.

와이씨켐 회사 관계자는 "반도체가 고집적화 되는 추세에 따라 웨이퍼 세정 장비 중요성이 커지고 있다. 특히, 미세수준에서의 오염물질 제거가 반도체 수율에 결정적인 역할을 하기 때문에 웨이퍼 세정의 중요성이 더욱 높아지고 있다"고 밝혔다.

와이씨켐 로고. [사진=와이씨켐]

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