와이씨켐은 반도체 소재 분야의 개발∙제조∙품질 노하우를 바탕으로 장비 개발 그룹을 구성하여 반도체 웨이퍼 특수 세정장비를 개발해왔다. 와이씨켐이 개발한 웨이퍼 특수 세정장비는 싱글워터 타입과 배치(batch) 타입 두 방식 모두 가능한 하이브리드 세정장비로 다음 달에 국내 반도체 관련 기업에 공급할 계획에 있다. 또한 또 다른 반도체 관련 기업과도 현재 수주 협상을 진행하고 있다.
와이씨켐은 반도체 고집적화에 따른 웨이퍼 세정의 중요성이 커지고 미세 오염 물질 제거가 반도체 수율에 미치는 지대한 영향이 크기 때문에 반도체 특수 세정장비를 매출 포트폴리오 다변화를 위한 신사업으로 성장시킬 방침이다.
와이씨켐 로고. [사진=와이씨켐] |
와이씨켐은 반도체 웨이퍼 세정장비와는 별개로 현재 고선택비 인산 농도 분석 장비를 개발 중이다. 고선택비 인산 농도 분석 장비는 고선택비 인산을 사용하는 반도체 제조 라인에서 실시간 인라인 리얼타임으로 정확하게 고선택비 인산 농도를 분석해 고선택비 인산을 교체하는 타임을 알려주는 장비이다.
와이씨켐 회사 관계자는 "현재 아직까지 양산에 적용된 사례가 없다. 우리는 이미 개발을 완료해 내부 테스트 과정에 있어 상용화 되면 국내외 첫 사례가 될 것으로 보인다. 이르면 연내 글로벌 고객사의 현장 테스트가 가능할 것"이라고 밝혔다.
와이씨켐은 반도체 소재 분야와 더불어 반도체 장비 분야도 다음 달 첫 장비 출하를 기점으로 계속 성장시켜 나갈 계획이다.
nylee54@newspim.com
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