중국이 미국 등 서방의 견제를 뚫고 최첨단 반도체 생산에 필수적인 극자외선(EUV) 노광 장비 시제품을 개발한 것으로 전해졌다. 미국의 원자폭탄 개발 계획에 빗대 ‘중국판 맨해튼 프로젝트’로 불리는 극비 국가 차원의 사업을 통해 기술 통제의 돌파구를 마련하려는 시도라는 분석이 나온다.

18일 로이터통신에 따르면 중국 과학자들은 올해 초 선전의 한 연구실에서 EUV 장비의 초기 프로토타입을 완성했으며 현재 시험 단계에 돌입했다. 다만 아직 실제로 칩을 생산할 수준은 아닌 것으로 전해졌다.

사진=AFP연합뉴스

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노광 장비는 반도체 회로를 웨이퍼에 빛으로 새기는 장비로, EUV 장비는 초미세 공정에 필수적이다. 유일하게 ASML만이 이 장비를 만들 수 있어 ASML은 반도체업계의 ‘슈퍼 을’로 불린다. 미국과 네덜란드가 손을 잡고 2019년부터 EUV 노광 장비의 중국 수출을 금지하면서 중국은 자력으로 초미세 공정의 칩을 만들 수 없었다.

중국 정부는 ASML에서 근무했던 중국 출신 엔지니어들을 투입하고, ASML 장비를 분해해 구조와 작동 방식을 파악하는 역설계 방식으로 자체 EUV를 개발한 것으로 전해졌다. 로이터는 “중국은 2028년까지 EUV 시제품으로 실제 칩을 생산하는 것을 목표로 했지만 현실적으로는 2030년이 될 가능성이 높다”면서도 “분석가들의 예상보다 훨씬 빠른 것”이라고 짚었다.

전문가들은 중국이 독자적인 첨단 칩 생산 기반을 갖추려면 여전히 초정밀 광학계 등 기술적 과제가 남아 있다고 내다보고 있다. 다만 중국 정부가 이 프로젝트에 지원을 아끼지 않고 있는 만큼 예상보다 빠르게 격차를 좁혀 한국과 대만 수준의 초미세 반도체 생산 역량을 갖출 가능성도 제기된다.

베이징=이우중 특파원 lol@segye.com

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