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[디지털투데이 AI리포터] 러시아가 네덜란드 반도체 장비 기업 ASML이 독점하고 있는 EUV 노광장치 개발에 도전장을 내밀었다.

지난 21일(현지시간) 온라인 매체 기가진에 따르면 러시아는 ASML과 다른 구조의 독자적인 EUV 노광기를 개발하겠다는 계획을 세웠다. 이를 위해 반도체 제조 툴의 전면적인 교체도 필요하다고 한다.

ASML의 EUV 노광 장비는 13.5nm의 파장을 조사할 수 있지만, 러시아는 11.2nm라는 더 짧은 파장을 목표로 하고 있다. 이를 통해 제조 비용과 운영 비용을 절감할 수 있을 것으로 기대된다.

러시아의 EUV 노광장비 개발 계획은 3단계로 나뉘어 있다. 첫 단계는 기초 연구 및 필요 기술 파악, 두 번째 단계는 200mm 웨이퍼를 시간당 60매 처리할 수 있는 시제품 제작, 마지막 단계는 300mm 웨이퍼를 시간당 60매 처리할 수 있는 양산 대응 제품 제작이다.

하지만, ASML의 13.5nm 파장에 맞춰 설계된 툴과 주변 설비가 이미 구축되어 있어, 러시아의 11.2nm 파장 EUV 노광장비로 반도체를 제조하기 위해서는 제조 생태계 전반의 혁신이 필요할 것으로 보인다. 이를 위해 필요한 시간은 수년에서 10년 정도로 예상된다.

한편, 중국도 ASML 등에 의존하지 않는 반도체 제조 생태계 구축을 추진하고 있다. 중국 정부는 2024년 4월에 반도체 산업에 7조원 이상을 투자하기로 했다.

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